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【真空腔體】PVD采用真空腔體的原因

來源：http://m.egug.cn發(fā)布時間：2019-12-03

真空腔體-PVD是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。

真空鍍膜中的濺射利用了輝光放電原理，因為有電場的存在，驅(qū)動空氣中的電子和正離子運動，電子向正極運動，正離子向陰極運動。離子與電子在運動過程中動能量不斷增加，與空氣分子碰撞就會不斷地產(chǎn)生更多的離子與電子，就造成了輝光的持續(xù)放電。

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