【KF真空法蘭】真空鍍膜對蒸發(fā)源的原材料標準有哪些方面

Source：http://m.egug.cnRelease Time：2019-09-09

【KF真空法蘭】真空鍍膜對蒸發(fā)源的原材料標準有哪些方面
 表面層處理網(wǎng)：真空鍍膜這種造成塑料薄膜原材料的技術(shù)性。在真空室內(nèi)外原材料的原子團從電加熱源離析出來了打得被鍍物塊的表面層上。該項技術(shù)性用以生產(chǎn)制造激光唱片（光碟）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷線路板上鍍金屬膜。



 真空鍍膜中對蒸發(fā)源的原材料標準有哪些方面？

 一般而言對蒸發(fā)源應(yīng)考慮到蒸發(fā)源的原材料和外形，通常對蒸發(fā)源原材料的標準是：

 (1)溶點高。由于蒸發(fā)原材料的蒸發(fā)環(huán)境溫度(穩(wěn)定平衡蒸汽壓為1.3Pa的環(huán)境溫度)大部分在1000~2000℃相互間，因而，蒸發(fā)源原材料的溶點應(yīng)高過此環(huán)境溫度。

 (2)穩(wěn)定平衡蒸汽壓得很低。這首要是預(yù)防或減小高溫下蒸發(fā)源原材料隨蒸發(fā)原材料蒸發(fā)而變成雜質(zhì)殘渣，加入蒸鍍膜層中。只能在蒸發(fā)源原材料的穩(wěn)定平衡氣壓充足低時，能夠確保在蒸發(fā)時具備*小的自蒸發(fā)量，才不至于影向系統(tǒng)軟件真空度和污染膜層，以便使蒸發(fā)源原材料所蒸發(fā)的總數(shù)很少，在挑選蒸發(fā)環(huán)境溫度、蒸發(fā)源原材料時，應(yīng)以原材料的蒸發(fā)環(huán)境溫度小于蒸發(fā)源原材料在穩(wěn)定平衡氣壓為1.3×10-6Pa時的制取高品質(zhì)的塑料薄膜可選用與1.3×10-3Pa所對應(yīng)的環(huán)境溫度。

 (3)有機化學性能指標平穩(wěn)，在高溫下不可與蒸發(fā)原材料出現(xiàn)化學反應(yīng)。在高溫下一些蒸發(fā)源原材料，與蒸發(fā)原材料相互間會造成反應(yīng)及擴散而行成化合物和合金。越來越是行成低共熔點合金蒸發(fā)源容易燒斷。例如在高溫時鉭和金會行成合金，鋁、鐵、鎳、鈷也會與鎢、鉬、鉭等蒸發(fā)源原材料行成合金。鎢還能與水或氧出現(xiàn)反應(yīng)，行成揮發(fā)性的氧化物如WO、WO2或WO3;鉬也能與水或氧反應(yīng)而行成揮發(fā)性MoO3等。因而，應(yīng)挑選不會與鍍膜材料出現(xiàn)反應(yīng)或行成合金的原材料做該原材料的蒸發(fā)源原材料。

 作為蒸發(fā)源的原材料必須具備溶點高、揮發(fā)低、高溫冷卻后脆性小等性質(zhì)。常用的線狀蒸發(fā)源應(yīng)能與蒸發(fā)金屬相潤濕，溶點遠遠大于待鍍金屬的蒸發(fā)環(huán)境溫度，不與待鍍金屬出現(xiàn)反應(yīng)生成合金。